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5nm太難!台積電5nm帶來的頻率提升僅15%

作者:Flower 日期:2018-05-13 標籤: 分類:阅读:8

  現在,台積電以及三星已經開始量產7nm,但Intel的10nm仍然在跳票當中。三星和台積電當然不會等Intel,5nm也應該要提上日程了,日前台積電公開了部分5nm工藝製程的相關規格,但看上去並不如理想。

  台積電5nm工藝將會使用荷蘭ASML Twinscan NXE:3400 EUV光刻機系統,進一步加大EUV的適用範圍,相比7nm電晶體密度可以增加80%,從參數上看性能本應該有相當大幅度的提升。但是,5nm所帶來的頻率提升實際上只有15%,功耗也智能降低20%左右。

  由於新技術尚不成熟,不管是技術、成本還是生產良率,都不能滿足量產的需求,所以採用5nm工藝製程的新品不會在近期內推出。不過,明年台積電的第二代7nm將會嘗試使用EVU極紫外光刻系統,提升工藝,電晶體密度可以在第一代的基礎上增加20%。


本文來源:http://new.qq.com/omn/20180510A0TG2U.html

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